НИИМЭ и НИИТМ приблизили Россию к чипам 65 нм

Научно‑исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ впервые в России создали кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), способные выпускать чипы с проектными норами 65 нм, на кремниевых пластинах диаметром 200 мм и 300 мм. Объем инвестиций в проект превысил 2,5 млрд руб. Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов (слева) и генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков (фото ComNews) АО "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники" (НИИМЭ) и АО "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" (НИИТМ) расположены в Зеленограде и входят в...