Первый отечественный фотолитограф для норм 350 нм

23 сентября на площадке российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования c разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и Отраслевыми решениями (входят в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT, резиденты ОЭЗ «Технополис Москва»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и Микрона (входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT), резидента ОЭЗ «Технополис Москва».

Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.

«В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи Элемента и Микрона. Подтверждено соответствие всем параметрам, заявленным в техзадании на ОКР», — сообщила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон», председатель совета директоров АО «Отраслевые решения».

«Сегодня закладывается фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В настоящее время осуществляется переход к серийному производству, это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», — сказал Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНТЦ».

Установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм создана в рамках реализации одного из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм для обеспечения технологической независимости и предназначена для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Разработана и произведена в партнёрстве с белорусским ОАО «Планар». Основные характеристики фотолитографа представлены на сайте ЗНТЦ.

Соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования для решения задач импортозамещения было подписано между ЗНТЦ и Микроном 24 сентября 2024 г.

Источник:Пресс-служба компании «Микрон»

Данные о правообладателе фото и видеоматериалов взяты с сайта «Бестселлеры ИТ-рынка», подробнее в Условиях использования
Анализ
×
Гюльнара Шамильевна Хасьянова
Последняя должность: Генеральный директор (АВТОНОМНАЯ НЕКОММЕРЧЕСКАЯ ОРГАНИЗАЦИЯ СОДЕЙСТВИЯ В РАЗВИТИИ ЦИФРОВОЙ ИНФРАСТРУКТУРЫ "КОНСОРЦИУМ "ТЕЛЕКОММУНИКАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ")
Ковалев Анатолий
АО "ЗНТЦ"
Организации
9
Компании
ОАО "ПЛАНАР"
Организации
7
ТЕХНОПОЛИС
Компании
АО "МИКРОН"
Компании