Использование экстремального ультрафиолета необходимо не только при создании центральных и графических процессоров, но и для производства микросхем оперативной памяти. Их ёмкость и скорость работы постоянно растут, а для дальнейшего увеличения необходимо уменьшать размеры транзисторов и повышать точность рисунков при их создании, для чего нужны современные EUV-сканеры.
Такие решения предлагает только ASML, в модельном ряде которой есть TWINSCAN EXE:5200B, выделяющийся высокой числовой апертурой (High NA), достигающей 0,55 вместо 0,33 у сканеров прошлого поколения. Первым партнёром, установившим такой сканер на своё производство, стала южнокорейская SK hynix, которая будет применять его для создания более производительной оперативной памяти.
Переход на передовые сканеры позволяет повысить плотность размещения транзисторов в 2,9 раза по сравнению со сканерами EUV прошлого поколения, а каждый отдельно взятый транзистор становится меньше на 70%. Этой новостью компания подтвердила своё доминирование в отрасли, обогнав TSMC и Samsung, которые не торопятся внедрять подобные сканеры из-за их высокой стоимости.